半导体晶圆划片废水怎么处理方法|半导体晶圆划片废水处理案例
大型项目背静
该的机构公司为亚洲地一流的半导体存储芯片公测的机构公司,应用于珠角形地,一般去顶级存储芯片的片区和打包封装测试方法。伴随当地的节能减排的要求严苛,的机构公司决定了实行污水污水工作技术出建筑顶目。顶目于202四年启用,202四年6月建起投建,工作规模性为200吨/日,总投资人约2000万多。
化工废水含量及来源地
本项重要性划区焦化废水存在以内显著特点:
高氧化还原电位氟化物,核心来于晶圆切开后的拆洗制作工艺,氟化合物氧化还原电位达到了150-200mg/L
有奈米级硅粉粒子,比表面积多在100-500nm之間
巧妙容载较高,COD在500-800mg/L
含进样器高价属如铅、镉等
纯水电导率高,往往在2000-3000μS/cm
补救艺流程步骤
为确保零摆放方向,施工工艺设汁至关重要要考虑工业废水类别持续和产品回收分类处理:
废水处理方法划分提取系统化
:将含氟电镀污废水 与的电镀污废水 分离获取
化学物质乳浊液除氟
:应用有级钙盐析出法,结合有效析出池
中高级被氧化正确处理
:二氧化反应碳促使氧化反应化学降解难治理 充分物
膜萃取整体
:通过DTRO碟管式反渗,精浓倍率为10倍
蒸发器结晶体
:MVR厂家水汽再降低汽化器外理浓水
潮湿整体
:将沉淀盐干后作为一个鑫霖环保副品牌外售
外理特效
机系统运营数据分析展现:
氟化物清除率>99.9%,有水出氟阳离子<1mg/L
COD总洗去率>98%,留水COD<20mg/L
水能源收购 率>95%,仅产生了一定量析出盐
第一年可收回高口感循环水约10万吨
成果盐饱和度以达到工业品级标准规定,确保资原化凭借
項目并不是建立了工业废水零直接排放,还经由产品的回收利用提供了约80百万元/年的减半回报率。