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半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例

创业项目视频背景 该工业企业技术专业生产的半导体器件用高纯氟化氢和六氟化钨,污水氟渗透压很高且组分很复杂。应有净化处工院艺成效不安全,氟化物排放出时会偏高。楼盘投資2一千万元施工专程净化治理设施管理,设汁净化治理特性500吨/天。 工业废水成分表及因素 电镀废水主要产于生产的机器设备清洗和烟气清洗: 氟阳离子密度:1500-3500mg/L 含浓盐酸根正离子:2000-5000mg/L pH值:1- 含少量钨、钼等重金属原素 清理工序程序流程 针对于高密度的特点,用到"与+层级积淀+膜处里"加工: 废渣汇集池:的分类汇集不一含量废渣 中合体现池:分环节污泥脱水氢空气硫化钠和氢空气硫化钙,操纵以后pH至7.5-8. 水解酸化池反馈池:加药PAC和PAM强化凝固感觉 斜管滤渣池:高效益固液分开 多物质滤过器:彻底清除不起眼粒子 反覆盖装置:纵深脱盐和除氟 污泥干化干化溶缩缺水处理装置:离心分离缺水处理后污泥干化干化运输技术专业妥善处理 在线播放检测装置:实时时间监管氟阴离子渗透压和pH值 终结效率 正确处理软件系统行驶数据信息: 渗水氟亚铁离子均匀有机废气浓度:2800mg/L 留水氟化合物酸度:3.2mg/L(评均) 氟清除率:99.9%左右 水工业废水处理率:完成65% 设备电脑自动化系统阶段高,控制化工废水治理直接费用降低了30%,年环保再生资源回收氟化钙副货品约400吨。

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